国内外的净化车间工程技术的发展都是随着科学技术的发展、工业产品的日新月异，特别是军事工业、航天、电子和生物医药等工业的发展而不断发展。现代工业产品生产和现代化科学实验活动要求微型化、精密化、高纯度、高质量和高可靠性。徽型化的产品如电子计算机，从当初的要在数间房间内配置数台设备组合发展到现在的笔记本电脑，它所使用的电子元器件从电子管到半导体分离器件到集成电路再到超大规模集成电路，仅集成电路的线宽已从几微米发展到现今的0.1tm左右。以集成电路的微型化为例，它对空气中受控粒子粒径从0.3~0.5m的要求发展到空气中受控粒子的粒子尺寸要求控制在0.05pm甚至更小，可见各类工,业产品的微型化正不断对净化车间工程技术提出更严格的要求。高纯度的产品，如生产集成电路所需单晶硅材料，生产光纤所需四氯化硅、四氯化储材料等已由过去的所谓高纯违入“电子纯”、“超纯”,只有达到如此高的纯度才能达到现代集成电路、电子元器件、光纤产品所需的技术特性。要生产如此高纯度的产品，就必须达到相应的受控生产环境的空气洁净度等级和具有,相应高纯度的与产品直接接触的超纯水、超纯气体、超纯试剂等。对于现今以“微型电脑”为手段的电子信息时代,产品的高质量、高可靠性的重要意义是不宫而喻的；对于确保入身安全的灭菌操作以及对于现代基因工程和基因芯片的制作也具有特殊的意义。基于这种趋势，洁净技术的发展已成为现代工业生产和科学实验活动不可缺少的重要标志之一。